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本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。
Price¥5,280
出版情報内田老鶴圃 ・ 市川幸美/佐々木敏明
- ISBN:
- 9784753650484
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本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。